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隨著科技的不斷進(jìn)步,軟機(jī)器人代表了智能機(jī)器開發(fā)的新前沿,為醫(yī)療行業(yè)帶來了新的機(jī)遇。這種機(jī)器人以柔軟的材料和先進(jìn)的控制系統(tǒng)為基礎(chǔ),能夠展示出新的能力,可以補(bǔ)充目前基于剛性材料的機(jī)器人所執(zhí)行的功能。在醫(yī)療領(lǐng)域,軟機(jī)器人的應(yīng)用已經(jīng)開始取得突破,特別是在微創(chuàng)手術(shù)方面,其潛在影響正在逐漸顯...
Proportion-air比例閥在低壓導(dǎo)管填充中的應(yīng)用該應(yīng)用要求在低壓下將介質(zhì)添加到導(dǎo)管中。3MM1的閥組用于控制注射器將介質(zhì)分配到導(dǎo)管中的力。MM1閉環(huán)壓力調(diào)節(jié)器的模擬監(jiān)控器可以帶回控制器進(jìn)行數(shù)據(jù)采集和持續(xù)監(jiān)控下游的精確壓力。MM非常理想,因?yàn)樗鼈兛梢裕喊惭b到一個(gè)通用歧管(最...
Proportion-air比例閥在液體壓力控制的應(yīng)用與BurlingValve過程壓力調(diào)節(jié)器配對(duì)的比例閥QB2可以提供液體壓力控制,以支持各種壓力、溫度和潤(rùn)濕材料要求。我們可以控制的一些液體包括液壓油、苛性鈉、酸性氣體、水和許多其他液體。在此應(yīng)用中,QB2引導(dǎo)BD系列減壓調(diào)節(jié)器...
Proportion-air比例閥在結(jié)霜分配中的柱塞壓力控制的應(yīng)用:下方解析圖顯示了QB3控制柱塞壓力以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)糖霜分配過程。氣動(dòng)隔膜泵填充一個(gè)柱塞,而備用柱塞分配產(chǎn)品。QB3用于按比例控制柱塞上的氣壓,以控制一致的產(chǎn)品流量。柱塞的體積和分配速度決定了所需的流速。在這種情況下,需...
Proportion-air比例閥在助焊劑點(diǎn)膠中的應(yīng)用:液體產(chǎn)品可以通過控制封閉壓力容器中的壓頭來分配。無論是液體、焊膏還是助焊劑點(diǎn)膠應(yīng)用,穩(wěn)定且可重復(fù)的壓力控制將提供最一致的點(diǎn)膠結(jié)果。在本例中,QPV1用于精確控制容器中的空氣(或惰性氣體)壓力。這種類型的控制消除了由于重力進(jìn)料...
許多應(yīng)用需要對(duì)與同一過程中的不同壓力相關(guān)的過程進(jìn)行精確的壓力控制——換句話說,差壓控制。在此示意圖中,兩個(gè)Proportion-AirQPV串聯(lián)工作,以在差動(dòng)分配應(yīng)用中分配樣品和溶液的組合。計(jì)數(shù)傳感器在分配點(diǎn)收集信息并將此信息發(fā)送到PLC,在PLC中計(jì)算信號(hào)并將其提供給兩個(gè)QPV...
許多工業(yè)團(tuán)體和學(xué)術(shù)研究人員發(fā)現(xiàn)微流體很有吸引力,因?yàn)樗蟠鬁p少了樣品和試劑的消耗。此外,可以縮短實(shí)驗(yàn)時(shí)間,并且可以同時(shí)運(yùn)行多個(gè)測(cè)試。簡(jiǎn)而言之,微流體可以更快地提供更多可操作的結(jié)果。我們的MPV和QPV電子壓力調(diào)節(jié)器可用于精確控制單個(gè)微流體通道或多個(gè)通道的壓力(單個(gè)歧管上10+,共...
在生產(chǎn)線和實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中準(zhǔn)確分配產(chǎn)品需要閉環(huán)技術(shù)。通過定制的電子壓力調(diào)節(jié)器調(diào)節(jié)氣壓提供了精密的監(jiān)測(cè)和控制儀表。我們的點(diǎn)膠應(yīng)用包括:調(diào)節(jié)壓力以控制分配液體產(chǎn)品的頭在灌裝機(jī)中分配食品的沖壓力控制微流體點(diǎn)膠重復(fù)性如果您在生產(chǎn)線上使用一桶液體,我們的產(chǎn)品在液體頂部提供精確控制的壓力,因此當(dāng)...
Proportion-Air制造了幾種不同的產(chǎn)品,這些產(chǎn)品設(shè)計(jì)用于安裝在具有共用進(jìn)氣口和排氣口的閥組上。這些產(chǎn)品通常用于空間有限但精度和可重復(fù)性至關(guān)重要的力壓控制應(yīng)用。在該圖中,安裝在SBM-7底座歧管上的七臺(tái)MPV1正在控制彈簧加載的減摩Airpel氣缸上的力,以測(cè)試小型汽車零...
在半導(dǎo)體工業(yè)中,一種稱為化學(xué)機(jī)械平面化(CMP)的工藝用于拋光晶片。這些晶圓用于硬盤驅(qū)動(dòng)器和其他組件以存儲(chǔ)和檢索信息。CMP機(jī)器墊拋光是生產(chǎn)高質(zhì)量晶圓的關(guān)鍵步驟。此過程旨在去除多余的材料并形成光滑的表面。許多不同類型的焊盤可用于在晶片上創(chuàng)建所需的表面。然而,所有這些墊都必須以可重...
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